制造先进芯片需要近乎完美的晶体材料，外延设备是生长晶体材料的关键设备，广泛应用于集成电路、功率器件、硅材料、第三代半导体等领域。

作为中国外延工艺装备技术的开拓者，北方华创（002371）早在2010年就启动外延装备的研发工作，经过十余年的技术沉淀与创新突破，已发布20余款量产型外延设备，累计出货近1000腔。

【资料图】

Excellent

品全质优

从2012年首台硅外延设备成功进入客户端至今，北方华创已然形成具有核心技术优势的品类齐全、应用广泛的外延设备系列化产品。

具备多种材料外延生长技术能力：包括单晶硅、多晶硅、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、磷化铟（InP）等，覆盖集成电路、功率器件、射频、半导体照明等领域应用需求。

— NAURA外延工艺一览表 —

实现4英寸到12英寸全覆盖：包括8英寸及以下的单片及多片大产能硅外延设备、12英寸硅外延设备、4/6/8英寸碳化硅外延设备、8英寸及以下单片及多片大产能硅基氮化镓外延设备。

— 4-12英寸单片/多片外延设备图示 —

Popular

誉满行业

励精图治，经过十余年在技术和市场方面的积累，北方华创的外延产品业绩斐然，不断赢得客户和产业界的好评。

公司在外延领域最早问世的8英寸硅外延设备，打破了行业的竞争格局，成为了行业内主流Baseline（基准）产品，将产业发展推向全新高度，问世至今几乎斩获国内市场全部订单。

12英寸常压硅外延设备突破了一系列关键技术，获得了市场的广泛认可：在功率器件领域，截至当前已在客户端连续量产超过20万片；在硅材料领域，已在多家客户端实现稳定量产，各项关键指标达到国际主流水平。此外，凭借优异的工艺性能和市场化业绩，产品于2022年荣获中国集成电路创新联盟第五届“IC创新奖”。

面向投资火爆的碳化硅领域，北方华创凭借深厚的技术积累，快速开发了碳化硅外延产品，目前产品已实现近200台的销售，占据市场半壁江山。面向8英寸碳化硅市场，北方华创前瞻性开发的6/8英寸兼容多片碳化硅外延设备也即将投入市场，将大幅降低客户运营成本，引爆新一轮市场热潮。

Innovative

常研常新

自2010年以来，北方华创对标行业前沿科技，精研市场及客户需求，通过持续创新，突破并优化了气流场、加热场、气路系统、温度控制、压力控制、运动系统等一系列关键技术，并可针对客户需求进行定制化研发。

多区控温技术，可提升外延层的结晶质量，优化外延层的掺杂分布，满足多种不同的技术要求。

高温洁净腔室技术，可降低晶体杂质与缺陷，提升器件层的晶体质量，提升器件性能。

多区水平气流场设计，实现单向层流，无反流湍流，可拓宽外延工艺窗口，提高外延界面质量，实现外延膜层的可控和器件的高性能。

常压与减压下的加热场与气流场的仿真技术，提升了工艺腔室的设计效率，为解决具体问题提供了理论支持。

北方华创将始终坚持对行业前沿科技的探索与研究，致力于打造具有前瞻性的专业技术与解决方案，以精良的外延设备与创新的专业服务为客户创造价值，推动产业进步，创造无限可能！